gototopgototop
top
logo

Поиск по сайту


Главная Спектрометры и системы Система для рефлектометрии тонких пленок NanoCalc
Система для рефлектометрии тонких пленок NanoCalc


Система для рефлектометрии тонких пленок NanoCalcОптические свойства тонких пленок возникают из-за  эффектов отражения и интерференции. Метрологическая система для рефлектометрии тонких пленок NanoCalc позволяет анализировать оптические слои толщиной от 10 нм до ~250 мкм. с разрешением до 0.1 нм. В зависимости от выбора программного обеспечения, вы можете анализировать однослойные или многослойные пленки менее чем за одну секунду, а также можете измерять толщину и удельный съем полупроводниковых пленок, нецарапающихся, твердых и антибликовых покрытий.


Преимущества системы NanoCalc

  • Возможность анализа однослойных и многослойных покрытий
  • Разрешение до 0.1 нм
  • Анализ покрытий в реальном времени на рабочем месте
  • Обширная база данных материалов


Принцип действия

Два наиболее распространенных способа измерения характеристик тонких покрытий - это измерение коэффициентов отражения/пропускания и эллипсометрия. В системе NanoCalc используется метод отражения и измерения количества света, отраженного от тонкого покрытия на различных длинах волн, падающего по нормали к поверхности образца.


Поиск по величине n и k

Анализируемое покрытие может содержать до 10 различных слоев. Слои и подложки могут быть металлическими, диэлектрическими, аморфными или представлять собой кристаллические полупроводники. Программное обеспечение NanoCalc включает в себя обширную библиотеку значений n и k для наиболее распространенных материалов. Вы можете самостоятельно редактировать записи библиотеки, или добавлять новые. Кроме того, вы можете определить типы материалов по формулам уравнений или дисперсии.


Область применения

Рефлектометрические системы NanoCalc для тонких пленок идеально подходят для локального измерения удельного съема материалов, а также для определения толщины оксидированных, SiNx, фоторезистивных и других полупроводниковых пленок. Системы NanoCalc также позволяют измерять антибликовые и нецарапающиеся покрытия, необработанные слои на подложках, таких как сталь, алюминий, латунь, медь, керамика и пластмассы.

Также среди областей применения:


  • Измерение пропускания и отражения неотражающих и жестких покрытий
  • Анализ медицинских покрытий и надувных шариков катетеров
  • Тестирование прочности и изношенности покрытий
  • Измерение толщины утоненных силиконовых дисков
  • Определение фоторезистивных слоев защитных маск
  • Анализ погодоустойчивых и грязеустойчивых покрытий (эффект Лотоса)
  • Измерение покрытий внутри контейнеров для напитков
  • Измерение воздушных зазоров
  • Анализ покрытий оптических дисков


Выбор программного обеспечения

Каждая метрологическая система NANOCALC требует наличия установленного программного обеспечения NANOCALC-1, или NANOCALC-10-N. Также для заказа доступны дополнительные модули, позволяющие осуществлять функции  симуляции спектра, позиционирования и внешней синхронизации.


Технические характеристики

Модель:NANOCALC-VIS
NANOCALC-XR
NANOCALC-DUV
NANOCALC-NIR
Спектральный диапазон:400-850 нм250-1050 нм190-1100 нм900-1700 нм
Измеряемая толщина
пленки:
50 нм - 20 мкм10 нм - 100 мкм1 нм - 100 мкм100 нм - 250 мкм
Оптическое разрешение:0.1 нм
Повторяемость:0.3 нм
Угол падения излучения:90º, или 70º
Количество слоев:до 10
Показатель преломления:да
Тестируемые материалы:Прозрачные, или полупрозрачные покрытия
Необходимость в опорном сравнении:да (непокрытая подложка)
Режимы измерения:Отражение и пропускание
Поддержка необработанных покрытий: да
Скорость измерения:от 100 мс до 1 с
Измерение в реальном
времени:
да
Настройка высоты:10-50 мм (с помощью адаптера COL-UV-6.35)
Размер пятна:200 мкм / 400 мкм (стандартно)
100 мкм (по запросу)
Микрофокус:да (при использовании микроскопа)
Визуализация:да (при использовании микроскопа)
Возможность
позиционирования:
Столики 150 х 300 мм
Поддержка измерений
в вакууме:
да
ПО для управления и обработки данных:NANOCALC (не входит в комплект поставки)


Информация для заказа

Системы NANOCALC:

Код товараОписание
NANOCALC-VIS
Система для рефлектометрии тонких пленок для диапазона 400-850 нм, для покрытий толщиной 50 нм - 20 мкм 
NANOCALC-XR
Система для рефлектометрии тонких пленок для диапазона 250-1050 нм, для покрытий толщиной 10 нм - 100 мкм
NANOCALC-DUV
Система для рефлектометрии тонких пленок для диапазона 190-1100 нм, для покрытий толщиной 1 нм - 100 мкм
NANOCALC-NIR
Система для рефлектометрии тонких пленок для диапазона 900-1700 нм, для покрытий толщиной 100 нм - 250 мкм


Стандартное (обязательное) программное обеспечение для систем NANOCALC:

Код товараОписание
NANOCALC-1Стандартное программное обеспечение для измерения тонких пленок для ОС Windows XP и выше. Выполняет измерение, симуляцию и однослойный анализ массива, содержащего до 4 слоев (может быть выделен только один слой, остальные должны быть фиксированными)
NANOCALC-10-NСтандартное программное обеспечение для измерения тонких пленок для ОС Windows XP и выше. Выполняет измерение, симуляцию и анализ до 10 слоев. Также может быть определен коэффициент преломления (для определения коэффициента преломления массива слоев требуется наличие дополнительного модуля SCOUT)


Дополнительное программное обеспечение NANOCALC:

Код товараОписание
SCOUT-FULL

NANOCALC-MAPPING

NANOCALC-ONLINE

NANOCALC-MULTIPOINT

NANOCALC-REMOTE


Сдвоенные оптоволоконные кабели для систем NANOCALC:

Код товараОписание
NC-2UV-VIS400-2

NC-2UVS400-2

NC-2VIS-NIR400-2


Зонды отражения для систем NANOCALC:

Код товараОписание
NC-7UV-VIS200-2

NC-7UV-VIS200-2-SMA


Дополнительные принадлежности для систем NANOCALC:

Код товараОписание
STEP-WAFER
Калибровочная подложка Si-SiO2, 5 шагов от 0 до 500 нм, диаметр 100 мм
STEP-WAFER-600-1100Калибровочная подложка Si-SiO2, 5 шагов от 600 до 1100 нм, диаметр 100 мм
STAGE-RTL-TПредметный столик для измерения отражения и пропускания с переменной направляющей, держателем волокна, держателем образцов, световой ловушкой и двумя коллиматорами для разных материалов подложки (для измерения пропускания требуется 2 дополнительных оптоволоконных кабеля).
STAGEПредметный столик для одноточечного измерения непрозрачных образцов
COL-UV-6Коллиматор UV-VIS-NIR (200-2000 нм), плавленный кварц Suprasil, диаметр 6 мм, фокусное расстояние 10, 200 °C, SMA 905, резьба 3/8-24
COL-UV-6.35
Коллиматор UV/VIS/NIR (200-2000 нм) с разъемом 6.35 мм







Для рефлектометрических приложений необходимы следующие позиции:

Код товара
Описание
NC-2UV-VIS100-2
Сдвоенный оптоволоконный кабель, длина 2 м, диаметр волокна 400 мкм, металлическая оболочка, разъемы SMA905
NC-STAGE
Опция одноточечного измерения непрозрачных образцов
STEP-WAFER
Калибровочная круглая подложка 4", 5 шагов, 0-500 мм 


При использовании микроскопа также необходимы следующие позиции:

Код товараОписание
NC-7UV-VIS200-2
Зонд отражения для использования с микроскопом + адаптер MFA-C-MOUNT
STEP-WAFER
Калибровочная круглая подложка 4", 5 шагов, 0-500 мм


Дополнительная информация

Руководство пользователя (англ., *.pdf)
Пример настройки и использования системы NanoCalc:


 

Голосование

Что Вы знаете о продукции Ocean Optics:

(404 голосов)

(235)
(88)
(61)
(20)
Спасибо за Ваш голос!

 
Задайте вопрос нашим специалистам, используя форму, или позвоните по телефону +7 (812) 920 40 33

bottom

Copyright © 2011-2017. E-Mail: info@oceanoptics.ru, Тел.: +7 (812) 920 40 33. Все права защищены.
При копировании материалов с сайта ссылка обязательна.